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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 76985
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 111264
25 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [ONO 공정 중 질화막 모니터링] [2] 3727
24 VI sensor를 활용한 진단 방법 [Monitoring과 target] [2] 3604
23 Wafer particle 성분 분석 [플라즈마 세정] [1] 2714
22 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자] [2] 2507
21 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [군산대학교 주정훈 교수님] [1] 2467
20 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [Excitation transfer 반응과 방사천이율] [1] 2310
19 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [Plasma spectroscopy] [1] 2302
18 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [Intensity 넓이 계산] [1] 2279
17 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위] [3] 2234
16 charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple] [2] 1921
15 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [전자전류의 해석] [1] 1837
14 Plasma 발생영역에 관한 질문 [Plasma sheath의 형성과정] [2] 1806
13 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [B-dot probe, plasma diagnostics] [1] 1634
12 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [수소, Ar 단원자 진단] [1] 1573
11 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [플라즈마 공간 분포 진단] [1] 1547
10 langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [Langmuir probe와 ground] [1] file 1490
9 고전압 방전 전기장 내 측정 [전극과 탐침과의 간격] [1] file 1425
8 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [OES와 atomic spectroscopy] [1] 1385
7 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [핵융합 연구소 자료] [1] 1117
6 OES를 통한 공정 개선사례가 있는지 궁금합니다. [플라즈마의 분포와 공정 진단] [1] 1111

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