안녕하세요.

반도체업계 종사자인 이우림이라고 합니다

 

다름이 아니라 300mm wafer위에 파티클 오염 분석을 진행중인데요.

혹시 300mm wafer를 coupon이 아닌 full wafer 상태로 삽입하여 wafer위의 파티클 성분 분석이 가능한 장비를 보유한 연구소를 알고 계신지요?

향후 분석에 꼭 필요한데 해당 장비 보유한 연구소를 찾지 못하는 상황입니다.

혹은 장비 관련 정보라도 알려주시면 감사하겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102900
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24689
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61429
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73480
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105841
23 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [ONO 공정 중 질화막 모니터링] [2] 3616
22 VI sensor를 활용한 진단 방법 [Monitoring과 target] [2] 3390
» Wafer particle 성분 분석 [플라즈마 세정] [1] 2623
20 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자] [2] 2400
19 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [군산대학교 주정훈 교수님] [1] 2344
18 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [Excitation transfer 반응과 방사천이율] [1] 2201
17 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [Plasma spectroscopy] [1] 2099
16 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [Intensity 넓이 계산] [1] 2071
15 charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple] [2] 1854
14 Plasma 발생영역에 관한 질문 [Plasma sheath의 형성과정] [2] 1708
13 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위] [3] 1687
12 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [전자전류의 해석] [1] 1676
11 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [B-dot probe, plasma diagnostics] [1] 1555
10 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [플라즈마 공간 분포 진단] [1] 1444
9 langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [Langmuir probe와 ground] [1] file 1363
8 고전압 방전 전기장 내 측정 [전극과 탐침과의 간격] [1] file 1316
7 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [수소, Ar 단원자 진단] [1] 1316
6 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [OES와 atomic spectroscopy] [1] 1177
5 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [핵융합 연구소 자료] [1] 977
4 OES를 통한 공정 개선사례가 있는지 궁금합니다. [플라즈마의 분포와 공정 진단] [1] 958

Boards


XE Login