|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 48587 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 49804 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[1]
| 55067 |
|
77 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
 | 34223 |
|
76 |
Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network)
| 33633 |
|
75 |
안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다.
[1] | 32211 |
|
74 |
matching box에 관한 질문
[1] | 26998 |
|
73 |
플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항
| 26277 |
|
72 |
Arcing
[1] | 25671 |
|
71 |
플라즈마 챔버 의 임피던스 관련
[1] | 25661 |
|
70 |
공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제...
[2] | 25296 |
|
69 |
Ground에 대하여
| 24557 |
|
68 |
RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동
[1] | 24271 |
|
67 |
dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐
[3] | 24126 |
|
66 |
스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
| 24085 |
|
65 |
ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의
[1] | 24020 |
|
64 |
Reflrectance power가 너무 큽니다.
[1] | 23926 |
|
63 |
esc란?
| 23864 |
|
62 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 23221 |
|
61 |
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
| 22678 |
|
60 |
안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
| 22468 |
|
59 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22098 |
|
58 |
Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 21327 |
