번호 제목 조회 수
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 72
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48822
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 54113
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 62553
91 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 38187
90 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 34662
89 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 33849
88 matching box에 관한 질문 [1] 28328
87 Ground에 대하여 26772
86 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 26448
85 Arcing [1] 26053
84 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [1] 26025
83 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25428
82 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25107
81 esc란? 24344
80 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 24334
79 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24316
78 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24092
77 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24017
76 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 23431
75 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 22791
74 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22508
73 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22149
72 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 21446
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