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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73516
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133 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [Matching과 L-type] [1] 48946
132 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41682
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130 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) [Matching Q factor와 negative ion] 36438
129 matching box에 관한 질문 [ICP Source 설계] [1] 30062
128 Arcing [전하 축적에 의한 방전 개시] [1] 28977
127 esc란? 28295
126 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 [Matching과 particle] 28046
125 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27597
124 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [ESC와 capacity] [3] 26975
123 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [공정 과정 및 장치 상태] [2] 26859
122 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25718
121 Reflrectance power가 너무 큽니다. [RF matching과 breakdown] [1] 25354
120 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [ICP Matching과 Circuit model] [1] 25244
119 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리] [1] 25030
118 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 25004
117 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23475
116 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 23085
115 Peak RF Voltage의 의미 22856
114 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성] [3] 22826

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