번호 제목 조회 수
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48404
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 48435
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 53873
74 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 33397
73 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 32701
72 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 31030
71 matching box에 관한 질문 [1] 26860
70 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 26126
69 Arcing [1] 25265
68 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25170
67 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24215
66 Ground에 대하여 24155
65 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 23946
64 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [2] 23904
63 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 23832
62 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 23425
61 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 22944
60 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [1] 22869
59 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 22612
58 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22425
57 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22032
56 esc란? 21951
55 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 21206

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