번호 제목 조회 수
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48587
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 49804
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 55067
77 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 34223
76 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 33633
75 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 32211
74 matching box에 관한 질문 [1] 26998
73 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 26277
72 Arcing [1] 25671
71 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [1] 25661
70 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25296
69 Ground에 대하여 24557
68 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24271
67 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 24126
66 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 24085
65 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24020
64 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 23926
63 esc란? 23864
62 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 23221
61 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 22678
60 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22468
59 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22098
58 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 21327

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