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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network)
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반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
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안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다.
[1] | 31030 |
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matching box에 관한 질문
[1] | 26860 |
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플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항
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Arcing
[1] | 25265 |
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공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제...
[2] | 25170 |
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RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동
[1] | 24215 |
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Ground에 대하여
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ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의
[1] | 23946 |
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dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐
[2] | 23904 |
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Reflrectance power가 너무 큽니다.
[1] | 23832 |
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62 |
스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
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61 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 22944 |
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플라즈마 챔버 의 임피던스 관련
[1] | 22869 |
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HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
| 22612 |
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안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
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MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22032 |
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esc란?
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Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 21206 |
