번호 제목 조회 수
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48709
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 50779
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 57199
85 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. newfile 36605
84 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) update 33736
83 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] new 32991
82 matching box에 관한 질문 [1] new 27113
81 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 update 26369
80 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [1] new 25950
79 Arcing [1] update 25857
78 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] update 25376
77 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? new 25032
76 Ground에 대하여 update 24842
75 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] update 24303
74 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] new 24254
73 esc란? update 24130
72 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] new 24055
71 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] new 23982
70 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. newfile 23340
69 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 new 22744
68 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. new 22486
67 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] update 22120
66 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] update 21394

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