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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[337]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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133 |
안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [Matching과 L-type]
[1] | 49272 |
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132 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
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131 |
Ground에 대하여
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130 |
Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) [Matching Q factor와 negative ion]
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matching box에 관한 질문 [ICP Source 설계]
[1] | 30184 |
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128 |
Arcing [전하 축적에 의한 방전 개시]
[1] | 29094 |
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127 |
esc란?
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126 |
플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 [Matching과 particle]
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125 |
플라즈마 챔버 의 임피던스 관련
[2] | 27726 |
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124 |
dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [ESC와 capacity]
[3] | 27210 |
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123 |
공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [공정 과정 및 장치 상태]
[2] | 26951 |
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122 |
스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
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121 |
Reflrectance power가 너무 큽니다. [RF matching과 breakdown]
[1] | 25499 |
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120 |
ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [ICP Matching과 Circuit model]
[1] | 25362 |
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119 |
RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리]
[1] | 25120 |
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118 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 25101 |
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117 |
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
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116 |
안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
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Peak RF Voltage의 의미
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114 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성]
[3] | 22906 |
