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| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 48518 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 49110 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] | 54811 |
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반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
 | 33659 |
| 75 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 33521 |
| 74 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 31756 |
| 73 | matching box에 관한 질문 [1] | 26951 |
| 72 | 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 | 26213 |
| 71 | Arcing [1] | 25548 |
| 70 | 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] | 25256 |
| 69 | 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [1] | 25140 |
| 68 | Ground에 대하여 | 24417 |
| 67 | RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] | 24245 |
| 66 | dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] | 24032 |
| 65 | ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] | 23992 |
| 64 | Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] | 23891 |
| 63 | 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? | 23594 |
| » | esc란? | 23575 |
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반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 23110 |
| 60 | HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 | 22642 |
| 59 | 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. | 22450 |
| 58 | MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] | 22076 |
| 57 | Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] | 21283 |