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| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 48709 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 50778 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] | 57199 |
| 85 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
  | 36605 |
| 84 |
Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network)
 | 33736 |
| 83 |
안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다.
[1] | 32991 |
| 82 |
matching box에 관한 질문
[1] | 27113 |
| 81 |
플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항
| 26369 |
| 80 |
플라즈마 챔버 의 임피던스 관련
[1] | 25950 |
| 79 |
Arcing
[1] | 25857 |
| 78 |
공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제...
[2] | 25376 |
| 77 |
스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
| 25032 |
| 76 |
Ground에 대하여
| 24842 |
| 75 |
RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동
[1] | 24303 |
| 74 |
dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐
[3] | 24254 |
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esc란?
| 24130 |
| 72 |
ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의
[1] | 24055 |
| 71 |
Reflrectance power가 너무 큽니다.
[1] | 23982 |
| 70 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 23340 |
| 69 |
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
| 22744 |
| 68 |
안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
| 22486 |
| 67 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22120 |
| 66 |
Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 21394 |