Others RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동

2009.08.05 12:52

조정안 조회 수:24245 추천:241

수고가 많으십니다.
저희 회사는 반도체, LCD장비 제작 회사들로 Motion Controller와 Servo ,Step Motor등을 공급하는 회사입니다.
업체 상담중에 문의사항이 있어서 조언을 구하고자 질문을 올려 드립니다.
Sputter 장비의 vacuum정도는 10 -3 torr, 공정온도는 약 100 도 정도입니다. Chamber내부에서 Motion을 구현 하고자 합니다. Chamber내부에 Vacuum용 모터를 사용하고자는데  RF 플라즈마에 의한 노이즈로 Motor 사용에 대한 부분을 우려하고 있습니다. 일반적으로 Chamber 외부로 Motion부분을 빼내어 메탈 벨로우즈를 이용한 방법으로 Motion을 사용한다고 하는데, Vacuum용 Motor를 RF 플라즈마 챔버내에서 사용하는 것이 가능한지 가능하다면 어떤 방법이 있는지 답변 부탁드립니다.
그럼 수고하십시요.

번호 제목 조회 수
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48518
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 49115
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 54813
76 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 33667
75 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 33521
74 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 31770
73 matching box에 관한 질문 [1] 26953
72 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 26215
71 Arcing [1] 25552
70 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25256
69 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [1] 25156
68 Ground에 대하여 24419
» RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24245
66 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 24034
65 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 23992
64 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 23893
63 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 23594
62 esc란? 23577
61 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 23112
60 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 22643
59 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22450
58 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22077
57 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 21284

Boards


XE Login