ESC Dry Etcher 내 reflect 현상

2009.08.07 13:39

김기권 조회 수:21494 추천:209

안녕하세요 저는 Dry Etcher 네 세라믹 Coating Type 정전척 ESC 만드는 회사에 다니고 있습니다.
다름이 아니라 고객사에서 Dry Etcher 장비 의 Reflect현상이 발생했다고 하는데 , 이현상에 대해 설명 부탁드립니다.
아울러 이 현상과 ESC 연관성에 대해서도 설명 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 219
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48933
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 56150
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 63558
92 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 38725
91 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 36478
90 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 33914
89 matching box에 관한 질문 [1] 28380
88 Ground에 대하여 27328
87 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 26516
86 Arcing [1] 26150
85 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [1] 26067
84 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25467
83 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25115
82 esc란? 24498
81 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 24423
80 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24337
79 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24106
78 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24052
77 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 23532
76 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 22813
75 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22523
74 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22176
» Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 21494

Boards


XE Login