Matcher 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다.

2011.01.03 12:29

한영일 조회 수:31770 추천:72

이제 막 Plasma라는 것에 발을 딛은 초보직장인인데요.

Mather장비는 A사 제품을 쓰고 있는데 항상 Matching test를 할때마다

tune과 load값이라는 것을 조정하여 맞추더군요.

솔직히 이 두개값에 대한 정의에 대해서도 잘모르겠고, 어떻게 조정을 하여

맞추는지 매우 궁금합니다. 결과적으로는 Plasma가 잘 발생하게 하기 위한 방법이겠지만

이해하기 쉽게 설명하여 주시면 매우 감사하겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48518
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 49115
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 54813
76 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 33667
75 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 33521
» 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 31770
73 matching box에 관한 질문 [1] 26953
72 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 26215
71 Arcing [1] 25552
70 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25256
69 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [1] 25156
68 Ground에 대하여 24419
67 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24245
66 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 24034
65 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 23992
64 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 23893
63 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 23594
62 esc란? 23577
61 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 23112
60 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 22643
59 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22450
58 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22077
57 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 21284

Boards


XE Login