LCD 장비 업체에 근무하는 김기권이라고 합니다.
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) Source/Drain 공정에서만 발생하고 있습니다 , 발생 시점 은 Plasma On 후 15~20sec 후 (Ti Etching 완료되고, Al 막이 전면적으로 나타난 시점)
증상은  HVDC current '0" , DC Bias 상승 (최대치인 100V 까지), 동시에 Bias Reflect (전반사 - 미세한 Refect가 아니라, 전면적인 반전)

2. 조치 사항    
    1) HVDC Swap - 변화 없음
    2) ESC Filter Swap - "    
    3) RF Matcher Swap - "
    4) ESC 교체 - 일시적 개선되나, 시간을 두고 다시 재발

장비에 문제 인지 ESC 에 문제인지 파악이 안되고 있습니다.

많은 도움 부탁드립니다.



번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [98] 3623
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 15307
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 50563
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 62969
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 81978
104 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 46171
103 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 40175
102 Ground에 대하여 37256
101 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 34455
100 matching box에 관한 질문 [1] 29150
99 esc란? 27509
98 Arcing [1] 27069
97 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 26961
96 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 26557
95 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25802
94 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25368
93 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 25053
92 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24485
91 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24317
90 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24274
89 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 23895
» HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23051
87 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22674
86 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22346
85 Peak RF Voltage의 의미 22093

Boards


XE Login