개인정보 노출 주의 부탁드립니다.

2010.12.10 13:44

관리자 조회 수:48523 추천:86

1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.

가. 대    상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체  
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)

5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
» 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48523
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 49163
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 54849
77 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 33714
76 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 33525
75 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 31786
74 matching box에 관한 질문 [1] 26954
73 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 26220
72 Arcing [1] 25561
71 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [1] 25261
70 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25259
69 Ground에 대하여 24425
68 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24245
67 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 24041
66 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 23996
65 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 23893
64 esc란? 23597
63 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 23594
62 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 23115
61 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 22644
60 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22451
59 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22079
58 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 21287

Boards


XE Login