ESC Si Wafer Broken

2018.08.01 11:16

장영구 조회 수:2511

안녕하세요. 반도체회사에 다니고 있습니다.

Plasma와 연관성이 없을 수 있는 질문인데요..

Si Wafer가 ESC Chucking  Voltage의 Damage(??)에 의해 Edge Broken이 발생할 수 있는지 궁금합니다. (2500v)

ESC를 사용하다가 1년 이상되면 Broken이 발생하고, Broken 주기는 점점 빨라집니다.

ESC의 오랜 사용에 의한 노화 현상은 맞는거 같은데 어떤 영향성으로 발생하는지 궁금해서요...(ESC 교체시 정상되네요)

Plasma On/Off와는 연관성이 없었습니다.



번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76728
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20191
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68700
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92278
122 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 47824
121 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41237
120 Ground에 대하여 39406
119 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 35911
118 matching box에 관한 질문 [1] 29665
117 Arcing [1] 28644
116 esc란? 28068
115 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27617
114 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27209
113 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26468
112 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26186
111 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25582
110 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24853
109 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24772
108 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24747
107 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24581
106 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23332
105 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22943
104 Peak RF Voltage의 의미 22603
103 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22579

Boards


XE Login