안녕하세요. 플라즈마응용연구실 관라자입니다.

 

금일부터 QnA 글을 작성하기 위해 등업제도를 일부 이용합니다.

 

해당 공지 게시글에 가입 인사를 적어주시면 QnA 글을 쓸 수 있는 권한을 받게 됩니다.

(*별도의 권한 처리 없이 댓글 등록시 바로 QnA 작성이 가능해집니다.)

 

글 작성 전에 반드시 댓글을 남겨주시고 QnA 글을 작성해주시기 바랍니다.

 

감사합니다.

 

** 기존에 글을 작성하셨던 분들도 권한 처리가 필요하므로 간단하게라도 댓글 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
» [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [85] 2302
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 12789
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49615
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61093
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 78857
102 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 45724
101 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 39962
100 Ground에 대하여 34932
99 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 34317
98 matching box에 관한 질문 [1] 29040
97 esc란? 27323
96 Arcing [1] 26856
95 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 26854
94 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 26400
93 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25721
92 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25296
91 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 24917
90 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24449
89 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24240
88 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24213
87 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 23811
86 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 22991
85 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22617
84 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22297
83 Peak RF Voltage의 의미 22032

Boards


XE Login