LCD 장비 업체에 근무하는 김기권이라고 합니다.
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) Source/Drain 공정에서만 발생하고 있습니다 , 발생 시점 은 Plasma On 후 15~20sec 후 (Ti Etching 완료되고, Al 막이 전면적으로 나타난 시점)
증상은  HVDC current '0" , DC Bias 상승 (최대치인 100V 까지), 동시에 Bias Reflect (전반사 - 미세한 Refect가 아니라, 전면적인 반전)

2. 조치 사항    
    1) HVDC Swap - 변화 없음
    2) ESC Filter Swap - "    
    3) RF Matcher Swap - "
    4) ESC 교체 - 일시적 개선되나, 시간을 두고 다시 재발

장비에 문제 인지 ESC 에 문제인지 파악이 안되고 있습니다.

많은 도움 부탁드립니다.



번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [267] 76710
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20162
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57162
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68683
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92242
121 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 47815
120 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41230
119 Ground에 대하여 39392
118 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 35900
117 matching box에 관한 질문 [1] 29665
116 Arcing [1] 28641
115 esc란? 28066
114 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27610
113 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27208
112 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26465
111 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26182
110 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25581
109 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24848
108 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24772
107 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24747
106 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24569
» HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23331
104 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22940
103 Peak RF Voltage의 의미 22602
102 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22579

Boards


XE Login