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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[333]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Dry Etcher 내 reflect 현상 [Chuck 전압/전류 및 field breakdown]
[2] | 22552 |
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전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [Coaxial cable과 wave shield]
[1]  | 21549 |
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ICP 플라즈마 매칭 문의 [Matching과 breakdown]
[2] | 21508 |
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CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [플라즈마 확산 및 전력정합 영역 제어]
[1] | 20643 |
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플라즈마 matching [Heating mechanism, matching]
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108 |
석영이 사용되는 이유 [플라즈마 내식성과 불순물 제어]
[1] | 20470 |
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[질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [Plasma 대면재료와 공정법]
[1] | 20045 |
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scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [RF matching 및 반응 단면적]
[2] | 19502 |
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CCP/ICP에서 자석의 역할에 대하여 [ICP와 자기장의 역할]
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MFC [Direct liquid injection]
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최적의 펌프는? [Turbo Pump와 corrosion free]
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Faraday shielding & Screening effect [Fluctuation과 grid bias]
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electrode gap
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Electrode의 역할에 대해서 궁금합니다. [이차전자의 방출과 스퍼터링]
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ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다.
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Virtual Matching [Impedance matching]
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Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다.
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ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다.
[1] | 15826 |
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플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. [플라즈마 영향 인자]
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반응기의 면적에 대한 질문 [전극의 면적에 따른 전압 강하]
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