질문 ::

안녕 하십니까?
저희 회사에서는 반도체 공정중 Dry Etching장비를 생산하고 있는 회사인데
개인적으로 몇가지 궁금한 점이 있어서 도움을 청합니다.
저희 Matching Network는 Coil을 이용하여 Power전달 및 Phase를 조정하고 또 Capacitor를 움직여 Impedance를 조정하는 방식을 사용하고 있습니다.
Source는 Multi Pole ICP Type입니다.
그런데 저희 장비에서 가끔 Source RF On시 Plasma가 Chamber내에서 발생하지 않음에도 불구하고 Reflect RF가 0watt로 Matching되는 현상이 가끔 일어나고 습니다.
왜 이러한 가상 Matching이 일어나는지에 대하여 알고 계시면 답변을 부탁
드리겠습니다.
그리고 이러한 문제를 해결하기 위해서는 어떠한 실험 방법이 있는지에 대하여 도움을 부탁 드립니다.
참고로 이러한 문제점으로 인하여 ∏Type의 Matching Network를 사용하여 보았지만 동일한 문제가 가끔 발생하고 있습니다.
또 현재 Dry Etch에서의 요즘 기술 추이는 Chamber 내부에 Anodizing을 하여
Chamber내부의 부식과 Metal오염을 방지하는 목적으로 사용을 하고 있는데
이로 인하여 Chamber내부의 Anode면적이 줄어들어 다른 문제가 발생할 소지는 없는지요. 예를들어 Self Bias의 값이 줄을 가능성은 없는지..
아니면 다른 문제의 가능성은 없는지에대하여 경험이나 지식이 있으시면
답변을 부탁 드리겠습니다.


답변 :: (정만환)

저의 의견이 도움이 될런지 모르겠습니다.
저의 경험으로 보면 문의하신 내용은 Impedance matching이 되지
않은 상태라고 보여집니다.
reflect power가 0[watt]이면 보통 match가 되었다고 보아도 무방합니다. 하지만 match controller의 성능이 좋다면?? auto match mode일때는 impedance match가 100%이루어 지지 않더라도 reflect가 나타나지
않는다는 겁니다.  하지만, 실제 power loss는 생기는것이지요.
실제 match controller나 RF->Match->load 사이에 열 방생이 있을겁니다.
질문하신사항중에. self bias를 문의하셨는데요..
아시겠지만, 면적에 4승에 비례하기 때문에 큰 문제는 없을 것으로
보여지구요.
혹시 impedance anlyzer가 있으면(이것은 고가장비입니다.)check해보는 것이 가장 확실한 방법입니다.
phase, current, R, X .. 거의 모든 값을 다볼수있죠. 좋은장비입니다.
RF generator가 50옴, 케이블 50옴,
-> 여기에 Match + Load(무엇이지를 잘 모르지만은요)가 50옴이 되어야 된다는 겁니다.  
이것을 해결하기위해서는 load capacitor 와 tune capacitor를 움직여
맞춰어 주어야 하는데요. 해결되지 않으면 load에 대하여
Match spec이 많지 않은것입니다.
이것이 되지 않을 경우에는 다른 해결방안이 있기는 하지만, 먼저 위의 사항부터 체크하는것이 좋을듯합니다.
별 내용없이 길어 진것 같은데요.. 궁금한것이 있는데요.
처음 셋업하시는건가요. 아님 사용하던 것인지.
조금더 도움이 필요하시면 연락주세요. 제가 아는만큼 공개하도록 하겠습니다