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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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반응기의 면적에 대한 질문 [전극의 면적에 따른 전압 강하]
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ICP 구성에서 PLASMA IGNITON시 문의 [ICP와 플라즈마 발생]
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플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다.. 도와주십시오 ㅠㅠ [플라즈마의 진공과 가스 주입]
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RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [연속공정]
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정전척 isolation문의 입니다. [Paschen's law와 절연파괴현상]
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RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [High Power RFG]
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Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [Plasma impedance와 Matcher]
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ETCH 관련 RF MATCHING중 REF 현상에 대한 질문입니다. [플라즈마 응답 특성]
[1] | 7657 |
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Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [플라즈마 임피던스 및 내부 임피던스 변화]
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플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매커니즘 문의.. [플라즈마 leak와 국부방전]
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안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [회로인자 및 구동기구, 플라즈마 특성]
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안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [VI probe]
[3] | 6666 |
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ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [ESC, 쉬스 전기장 및 bias 전력 조절]
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RF calibration에 대해 질문드립니다.
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매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [RF 전력 전달]
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Depostion 진행 중 matcher(shunt, series) 관계 질문 [Matcher와 VI sensor]
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ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할
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플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [플라즈마 주파수와 Vpp, sheath]
[1] | 4598 |
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dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [표면 하전 특성 및 chucking 불안정성]
[1] | 4386 |
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Vpp, Vdc 측정관련 문의 [Self bias와 DC offset]
[1] | 4385 |
