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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다.
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플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의..
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RF calibration에 대해 질문드립니다.
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RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다
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안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다.
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Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다.
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ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할
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ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다.
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RF Power reflect 관련 문의 드립니다.
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Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다.
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13.56MHz resonator 해석 관련 문의
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ESC Cooling gas 관련
[1] | 1367 |
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플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다.
[2] | 1329 |
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3 stub 정합에 대해 궁금합니다.
[1] | 1186 |
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chamber impedance
[1] | 1131 |
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CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요
[1] | 1097 |
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매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~
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Si Wafer Broken
[1] | 1080 |
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임피던스 매칭회로
[1] | 1065 |
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Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요?
[1] | 889 |
