Others 석영이 사용되는 이유?

2010.04.16 19:26

최영익 조회 수:20024 추천:151

안녕하세요. 플라즈마를 공부하는 최영익이라고 합니다.

plasma device들 중에 석영을 주로 쓰는 경우가 있는데 특별한 이유가있는지요?

플라즈마 발생장치 중에 석영관 사이에서 방전을 한다거나

안테나가 석영관 뒤에 있는 경우가 있는데

석영이 선택되는 특별한 이유가 있는지요?

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76739
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20207
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68703
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92293
62 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3185
61 RF matcher와 particle 관계 [2] 2920
60 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2821
59 임피던스 매칭회로 [1] file 2804
58 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2580
57 Si Wafer Broken [2] 2512
56 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2493
55 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2438
54 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2343
53 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2334
52 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2320
51 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2313
50 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2228
49 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 2015
48 chamber impedance [1] 2009
47 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1950
46 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1912
45 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1871
44 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1850
43 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1703
쓰기
태그

Boards

XE Login