Matcher CURRENT PATH로 인한 아킹 [RF 접지 면접촉 개선]

2023.08.22 11:19

생렬 조회 수:673

안녕하세요.교수님

 

이번에 설비사에서 Matcher Plate에 Matcher를 장착할 때 Plate와 Matcher 바닥면 사이 약간의 유격이 있는 상태에서 볼트로 체결하고 RF Power 13.56MHz 2kW 인가 해서 Output 커넥터(20PI 소캣타입)에 아킹이 발생 하였습니다. (크리피지 길이는 충분합니다.)

볼트로 체결하면서 Plate와 Matcher 사이는 완전이 붙었다곤 하지만 제생각엔 완전 면접촉 상태가 아니고 점접촉 상태에서 CURRENT PATH 때문에 아킹이 발생 한 것 같은데 이 원리를 이론적으로 잘 모르겠더라구요..

 

답변 부탁드립니다

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102367
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24607
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61272
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73368
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105619
32 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다. [VI Phase] [1] 1303
31 고진공 만드는방법. [System material과 design] [1] 1269
30 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [오존발생기] [1] 1227
29 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [RF 전원과 matcher] [2] 1157
28 연면거리에 대해 궁금합니다. [아크 제어] [1] 1154
27 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [RF plasma와 circuit model] [1] 1099
26 경전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 1090
25 RF 파워서플라이 매칭 문제 1012
24 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [Plasma heating] [1] 931
23 RPC ClEAN시 THD 발생 [RF shield와 ground의 강화] [1] 900
22 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [전자 가열 방법 및 생산성에 따른 구별] [1] 862
21 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [플라즈마 회로 설계] [2] 838
20 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의 드립니다. [플라즈마 분포와 확산] [1] 778
19 Bias인가 Cable 위치 관련 문의 [플라즈마 분포 관찰] [1] 743
18 ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다 [1] 741
17 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 738
16 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 717
15 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 716
14 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 676
» CURRENT PATH로 인한 아킹 [RF 접지 면접촉 개선] [1] file 673
쓰기
태그

Boards

XE Login