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| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 48774 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 52772 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] | 60579 |
| 17 | dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] | 24301 |
| » | esc란? | 24259 |
| 15 | 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. | 22500 |
| 14 | Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] | 21429 |
| 13 | [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] | 19453 |
| 12 | 정전척 isolation 문의 입니다. [1] | 6322 |
| 11 | 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] | 5956 |
| 10 | Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. | 3439 |
| 9 | ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 | 3217 |
| 8 | ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] | 3137 |
| 7 |
ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다.
 | 3126 |
| 6 | ESC Cooling gas 관련 [1] | 1756 |
| 5 | Si Wafer Broken [2] | 1299 |
| 4 | CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] | 1262 |
| 3 | dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] | 956 |
| 2 | Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] | 951 |
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전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다.
[1] | 279 |