Sputtering 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [플라즈마트 및 휘팅커 회사]
2012.04.01 11:51
ICP chamber 방식이며 Generator는 13.56MHz, 1.5kw두개를 사용할경우
matcher제작 or 분석을 하려는데 국내, 일본 회사에서는 불가능 할것 같다고 합니다.
미국의 AE, MKS를 제외하고 RF matcher나 Generator 방면에서 기술력을 갖고 있는
회사가 있을까요?
혹시 알고 계신곳이 있으면 가르쳐 주시면 감사하겠습니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] | 103410 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 24722 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 61549 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 73527 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 105980 |
| 154 | 플라즈마 응용분야 | 17981 |
| 153 | 교육 기관 문의 | 17843 |
| 152 | [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. | 17296 |
| 151 | ICP 식각에 대하여… [Electronegative plasma] | 17109 |
| 150 | 플라즈마 처리 [표면처리와 Plasma Chemistry] | 17060 |
| 149 | sputter | 16988 |
| 148 | nodule의 형성원인 | 16925 |
| 147 | 몇가지 질문있습니다 | 16646 |
| 146 | Ar traction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [Chamber wall과 radical reaction] [1] | 16118 |
| 145 | Sputter | 16114 |
| 144 | PMMA(폴리메틸메타크릴레이트)의 표면개질에 관해 [1] | 15878 |
| 143 | 박막 형성 [ICP와 MOCVD] | 15390 |
| 142 | 산업용 플라즈마 내에서 particle의 형성 | 15190 |
| 141 | 플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마 | 14917 |
| 140 | ICP와 CCP의 차이 [Self bias와 Maxwellian distribution] [3] | 13108 |
| 139 | N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [쉬스 전위 및 플라즈마 세정] [1] | 12491 |
| » | 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [플라즈마트 및 휘팅커 회사] [1] | 10710 |
| 137 | 에칭후 particle에서 발생하는 현상 | 9858 |
| 136 | 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 | 9340 |
| 135 | Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [Depo radical 형성 및 sputtering] [1] | 9059 |