|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[160]
| 73073 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 17639 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 55521 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 65721 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 86086 |
|
76 |
Plasma 에칭 후 정전기 처리
[3] | 2814 |
|
75 |
M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다.
[1] | 2796 |
|
74 |
HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요?
| 2608 |
|
73 |
PR wafer seasoning
[1] | 2517 |
|
72 |
HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의
[1] | 2505 |
|
71 |
산소양이온의 금속 전극 충돌 현상
[1] | 2486 |
|
70 |
Plasma etcher particle 원인
[1] | 2322 |
|
69 |
Ta deposition시 DC Source Sputtreing
| 2289 |
|
68 |
RIE에 관한 질문이 있습니다.
[1] | 2253 |
|
67 |
Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다.
[1] | 2152 |
|
66 |
PECVD Precursor 별 Arcing 원인
[1] | 2102 |
|
65 |
sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지
[1] | 2043 |
|
64 |
Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련.
[1] | 1991 |
|
63 |
etching에 관한 질문입니다.
[1] | 1773 |
|
62 |
플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다.
[1] | 1750 |
|
61 |
DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다.
[1] | 1666 |
|
60 |
Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate
[1] | 1660 |
|
59 |
식각 시 나타나는 micro-trench 문제
[1] | 1568 |
|
58 |
터보펌프 에러관련
[1] | 1563 |
|
57 |
RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다.
[1] | 1555 |
