|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[235]
| 75777 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 19464 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 56675 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68046 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 90350 |
|
174 |
플라즈마내에서의 아킹
| 43618 |
|
173 |
ECR plasma 장비관련 질문입니다.
[2] | 34825 |
|
172 |
PEALD관련 질문
[1] | 32181 |
|
171 |
RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다.
| 31442 |
|
170 |
DC Bias Vs Self bias
[5] | 31324 |
|
169 |
RF에 대하여...
| 30788 |
|
168 |
[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다.
 | 29766 |
|
167 |
PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건
| 29573 |
|
166 |
[Sputter Forward,Reflect Power]
[1] | 29019 |
|
165 |
OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다.
[1] | 27862 |
|
164 |
스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다..
| 24740 |
|
163 |
H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점...
[1] | 24557 |
|
162 |
Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제
| 24054 |
|
161 |
N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요
[2] | 23610 |
|
160 |
Arcing
| 23584 |
|
159 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 22623 |
|
158 |
Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 22483 |
|
157 |
플라즈마 코팅에 관하여
| 22040 |
|
156 |
펄스바이어스 스퍼터링 답변
| 21877 |
|
155 |
스퍼터링시 시편두께와 박막두께
[1] | 21462 |
