현재 반도체회사에서 CVD 엔지니어로 근무중에 있습니다.

최근 CuSi 공정에서 지속적으로 Thickness에 문제가 발생하여 Wafer Map을 확인하게 되면 Compressive한 Map으로 관찰되고 있습니다.

Wafer를 Compressive하게 변화하게 만드는 source가 대부분 어떤게 있는지 알 수 있을까요? (Ex. AlF, Plasma, Temp ETC)

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [317] 82726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21982
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58761
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70390
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96331
193 플라즈마내에서의 아킹 [Charge와 plasma potential] 43814
192 ECR plasma 장비관련 질문입니다. [ECR과 enhanced process] [2] 35099
191 PEALD관련 질문 [Passivation 막 증착 과정] [1] 32796
190 RF에 대하여... 32379
189 DC Bias Vs Self bias [전자 에너지 분포] [5] 31806
188 RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. 31784
187 [Sputter Forward,Reflect Power] [Sputter와 matching] [1] 31369
186 [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다. file 30297
185 PECVD에서 플라즈마 demage가 발생 조건 [쉬스와 플라즈마 밀도에 의한 damage] 29919
184 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [Etching] [1] 29300
183 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 25011
182 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점… [폭발과 pressure] [1] 24870
181 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24314
180 Arcing [아크의 종류와 발생 원인] 24046
179 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [Cooling과 Etch rate] [2] 23955
178 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [플라즈마 및 반응기 임피던스] [1] 22988
177 Dry Etcher 에 대한 교재 [플라즈마 식각 기술] [1] 22653
176 질문있습니다 교수님 [Deposition] [1] 22545
175 플라즈마 코팅 관하여 [PECVD와 화학물 코팅] 22164
174 펄스바이어스 스퍼터링 답변 22023

Boards


XE Login