안녕하세요

저는 직장인입니다

회사에서 OLED쪽 CVD 장비유지보수 업무를 하고있습니다

그동안 플라즈마 연구실에서 궁금한거 눈팅만 하다가 이번에는 없어서 직접 질문드립니다

보안에 위배될까봐 자세히는 적지 못 합니다 이해 부탁드립니다.

증착 중 부속 장비의 알람 발생으로 증착 중 RF Power 및 가스 Flow가 중단되어 증착이 중단됩니다

Alarm 발생 Glass를 살리기 위해 Glass 제전(전극과 Glass 간격을 벌려줌) 후 추가증착을 진행(추가증착시 전극에 Glass 안착 후)하는데

이 추가증착 진행 Glass에서 흰얼룩(뿌연얼룩/방사형얼룩)이 발생됩니다

이것을 해결 하기 위한 방법이 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77206
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20464
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57360
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68900
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92945
64 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1210
63 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1205
62 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1200
61 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1185
60 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1168
59 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1147
58 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1147
57 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1142
56 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1122
55 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1108
54 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1099
53 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1092
52 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1079
51 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 1019
50 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 917
49 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 907
48 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 900
47 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 858
46 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 850
» 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 770

Boards


XE Login