kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
2009.11.17 16:06
안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다
a) the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.
b) the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV
Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다.
댓글 0
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76711 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20163 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57163 |
| » | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68686 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92249 |
| 42 | O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. | 736 |
| 41 | ICP 후 변색 질문 | 724 |
| 40 | 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] | 723 |
| 39 | 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] | 708 |
| 38 | 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] | 695 |
| 37 | 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] | 694 |
| 36 | [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] | 669 |
| 35 | Polymer Temp Etch [1] | 659 |
| 34 |
Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다.
[1]  | 636 |
| 33 | ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] | 612 |
| 32 | 기판표면 번개모양 불량발생 [1] | 607 |
| 31 | 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] | 604 |
| 30 |
RF Sputtering Target Issue
[2] | 594 |
| 29 |
Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동
[1] | 544 |
| 28 | 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] | 540 |
| 27 | Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] | 505 |
| 26 | PECVD Uniformity [1] | 497 |
| 25 | remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] | 485 |
| 24 | magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] | 471 |
| 23 | AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 | 469 |