안녕하세요.

 

Etching과 Deposition을 같이 최근에 공부를 시작하고 있는 회사원입니다.

다름이 아니라, 

   최근 기사에서 LCD->OLED로 넘어가는 과정에서 OLED 특성상(유기발광체 때문??) SF6를 NF3로 대체가 어렵다는

   내용의 기사를 봤습니다.

 

질문은

   1. OLED에서 SF6는 어느공정(Etching / Chamber Cleaning / ??)에 주로 사용되나요?

   2. SF6를 NF3로 대체할 수 있는 이유는 뭔가요?

   3. CF4도 사용되는 것으로 아는데, 어느공정에 주로 사용되나요?

 

고수님들의 답변 부탁드립니다.

가지고 계신 문헌과 특허라도 알려주시면 크게 감사드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [233] 75736
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19419
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56648
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67966
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90148
34 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 662
33 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 649
32 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 641
31 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 630
30 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 621
29 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 602
28 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 555
27 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 554
26 Polymer Temp Etch [1] 545
25 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 506
24 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 501
23 RF Sputtering Target Issue [2] file 466
22 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 464
21 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 457
20 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 435
19 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 404
18 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 385
17 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 373
16 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 350
15 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 299

Boards


XE Login