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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64498
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49 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23334
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39 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 4254
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37 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 3930
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34 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 2963
33 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2539
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