Etch Plasma etcher particle 원인

2018.01.10 18:14

베컴 조회 수:3019

안녕하십니까?


현업에 종사하고 있습니다.


다름이 아니오라, 에쳐에서 파티클문제가 해결이 되지않고 있는데....


그 원인이 궁금합니다.


제가 논문을 보고 추정하기로는


1.챔버내부 하드웨어에서 가스에의해 식각된 불순물이 발생

2.플라즈마 라디칼과 이온 충돌에 의한 하드웨어 불순물 발생, 1번과 거의 동일

3.가스중합반응시 화학적 결합을 반응을 통한 불순물 발생

4.플라즈마 방전 종료 및 시작 시 쉬스영역에 분포하여 갖혀있는 불순물이 방전중지 시 발생


위와같이 추정을 하고 있습니다.


이 문제를 해결하기 위해서, 내부하드웨어 물질 변경등의 방법을 시도하고 있습니다.


주요한 문제가 무었이라고 생각이 되시는지요? 교수님, 또한 이 문제를 해결하기 위해서 다양한 방법이 있겠지만,

최근의 학계분야에서 이슈가 되는 해결책이 있는지 궁금합니다.


바쁘시겠지만 답변 부탁드립니다. 또한 참고할만한 논문이 있다면, 부탁드리겠습니다.


많은 도움이 될거같습니다.


감사합니다.

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