개인정보 노출 주의 부탁드립니다.

2010.12.10 13:44

관리자 조회 수:61429 추천:86

1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.

가. 대    상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체  
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)

5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102900
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24689
» 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61429
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73480
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105841
16 RIE Gas 질문 하나 드려도 될까요? [Sheath instability] [1] 634
15 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메커니즘에 대해 질문하고 싶습니다. [플라즈마-화학-표면 반응 모델] [1] 630
14 Etch Plasma 관련 문의 건.. [RF 주파수와 플라즈마 주파수] [1] 630
13 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해] [1] 614
12 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [Plasma Cleaning] [1] 611
11 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 606
10 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성] [1] 593
9 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [RF matcher noise] [1] 585
8 Wafer 영역별 E/R 차이에 대한 질문 [Gas flow system vs E/R] [1] 578
7 III-V 반도체 에칭 공정 문의 [1] 563
6 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 484
5 ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다. [1] 482
4 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length] [1] 461
3 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 432
2 ExB drift 식 유도 과정에서의 질문 [삼각함수의 위상각] [1] 344
1 플라즈마 식각 커스핑 식각량 226

Boards


XE Login