Deposition 증착에 대하여...

2004.06.19 16:52

관리자 조회 수:18192 추천:239

저희도 증착 실험을 시도하고 있기도 합니다만 증착에 관한 경험은 많지 않습니다. 단지 도구로 사용하는 플라즈마의 특성에 관해서 공부를 조금 하고 있는 정도입니다.

예전 저희 경험으로는 Cu의 경우 sputtering에 의해서는 매우 증착이 잘 되었습니다. 하지만 지금 같은 MO에서도 잘 될 것 같은데, 산소가 너무 많지 않은가 하는 생각되 있긴 합니다. 개인적인 생각으로 현재 장치에서는 처부해야할 부분이 있다면, 박막의 성장 조건을 마련하기 위해서 (일단 시편이 얇은 경우면 DC도 가능하겠지만) self-bias를 인가할 수 있는 substrate를 제작하셔야 할 것 같습니다. 아울러 온도 조절도 가능하면 좋을 것입니다. 박막 제조를 n이해서는 시편의 온도, 시편 위에서의 전위 (이 경우 self bias)등의 조건을 매우 중요합니다. 일단 위의 두가지 조건을 변화할 수 있으면 변화해 보기 바랍니다. 이 점은 다른 박막 실험을 위해서도 필요하니 신경쓰시기 바랍니다. 또한 박막의 제만 의문점에 대해서는 저희 학과의 안 일신 교수님 (전화 031-400-5478/ 혹은 ilsin@hepth.hanyang.ac.kr)로 문의해 보시기 바랍니다. 박막에 대한 많은 경험을 갖고 계신 분입니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [329] 100362
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24196
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 60829
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72807
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 104421
37 PEALD관련 질문 [Passivation 막 증착 과정] [1] 32998
36 RF에 대하여... 32540
35 RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. 31893
34 PECVD에서 플라즈마 demage가 발생 조건 [쉬스와 플라즈마 밀도에 의한 damage] 30060
33 질문있습니다 교수님 [Deposition] [1] 22686
32 플라즈마 코팅 관하여 [PECVD와 화학물 코팅] 22199
31 스퍼터링시 시편 두께와 박막두께 [박막의 하전량 변화] [1] 21982
30 DC SPT 문의 [절연체의 전위] 19769
29 플라즈마를 이용한 박막처리 19672
» 증착에 대하여... 18192
27 교육 기관 문의 17836
26 PMMA(폴리메틸메타크릴레이트)의 표면개질에 관해 [1] 15840
25 박막 형성 [ICP와 MOCVD] 15368
24 Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [Depo radical 형성 및 sputtering] [1] 8992
23 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [플라즈마 밀도와 중성 가스의 균일도] [1] 8340
22 플라즈마 데미지에 관하여.. [Charge의 축적과 damage] [1] 6727
21 플라즈마 색 관찰 [플라즈마 빛과 OES신호] [1] 4912
20 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [세정 시간 및 식각 효율] [1] 4509
19 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [하전에 의한 전기장 형성 및 방전 시간] [1] 4146
18 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Depostion Rate 감소 현상 문의 [전자의 에너지와 중성입자와의 충돌] [1] 3200

Boards


XE Login