안녕하세요

반도체쪽에서 일하는 직장인 입니다.

다름이 아니라 CVD공정 양산 설비 Depo시 간헐적으로  Plasma On시 초기 2초간 Reflect가 발생하더라구요...

이와 관련하여 해당 Chamber Issue로는  Plasma On시 Load 값 Issue가 있어 Matcher교체 하였구요. 

이 후 동일 문제로 RF Filter 교체 하였고 접지Cable Resetting 하였고 Heater 교체도 하였습니다.

이 후에 초기 Reflect가 발생 하였다는 것을 알게 되어 초기 Reflect 관련 문제를 해결하려고 하는데

아직 정확한 원인을 찾지 못하여 이렇게 많은 분들께 조언 구합니다.

실제 Fab에서 양산 설비이기 때문에 Gas 유량, 압력, 동축 Cable 길이 등은 다른 양산 설비와 동일 하구요. (실제 확인도 하였습니다.)

Generator에서 인가되는 Power도 문제 없는 것을 확인하였습니다.

추가로 어떤 부분을 확인하면 도움이 될 지 많은 분들의 조언 부탁드립니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102880
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24689
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61423
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73479
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105836
37 PEALD관련 질문 [Passivation 막 증착 과정] [1] 33021
36 RF에 대하여... 32594
35 RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. 31932
34 PECVD에서 플라즈마 demage가 발생 조건 [쉬스와 플라즈마 밀도에 의한 damage] 30120
33 질문있습니다 교수님 [Deposition] [1] 22710
32 플라즈마 코팅 관하여 [PECVD와 화학물 코팅] 22217
31 스퍼터링시 시편 두께와 박막두께 [박막의 하전량 변화] [1] 22034
30 DC SPT 문의 [절연체의 전위] 19775
29 플라즈마를 이용한 박막처리 19694
28 증착에 대하여... 18210
27 교육 기관 문의 17842
26 PMMA(폴리메틸메타크릴레이트)의 표면개질에 관해 [1] 15870
25 박막 형성 [ICP와 MOCVD] 15386
24 Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [Depo radical 형성 및 sputtering] [1] 9051
23 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [플라즈마 밀도와 중성 가스의 균일도] [1] 8372
22 플라즈마 데미지에 관하여.. [Charge의 축적과 damage] [1] 6751
21 플라즈마 색 관찰 [플라즈마 빛과 OES신호] [1] 4982
20 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [세정 시간 및 식각 효율] [1] 4557
19 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [하전에 의한 전기장 형성 및 방전 시간] [1] 4256
18 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Depostion Rate 감소 현상 문의 [전자의 에너지와 중성입자와의 충돌] [1] 3229

Boards


XE Login