Others ECR plasma 장비관련 질문입니다. [ECR과 enhanced process]
2010.10.18 17:35
안녕하세요, 저는 한국과학기술원 석사과정에 재학중인 최선진입니다.
홈페이지에서 plama를 이용한 흥미로운 연구를 하고 있는것 잘 살펴 보았습니다.
다름이 아니라 장비에 관하여 궁금한 점이 있어서, 메일로 질문을 드릴려다가 이곳에 남깁니다.
ECR(electron cyclotron resonance) plama에 관한 것인데요, 혹시 이장비를 이용하여 oxidation을 할 수 있을까요?
특히, 금속 물질을 oxidation하기 위함입니다.
답변부탁드립니다.
점점 차가워지는 날씨에 감기조심하십시오.
감사합니다.
최선진 올림.
댓글 2
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반도체 공정 또는 Ti 등을 oxidation 시키는 low temp. 공정에서 더 효율적으로 oxidation을 제어하기 위해 여러 plasma enhanced processes가 사용되고 있고, 그 중 하나가 ECR plasma oxidation process입니다.
ECR 플라즈마는 ECR 영역(region)에서 (자기장에 의한 마이크로웨이브파의) 공명 가열이 일어나, 높은 전자온도, 고밀도의 특성을 가지는 플라즈마입니다. 높은 전자 온도의 ECR 플라즈마에서 산소는 효율적으로 해리 반응이 제고되기 때문에 oxidation 반응이 'enhanced'되게 됩니다. 여기서 주의해야 할 점은 고밀도 플라즈마이기 때문에 process 중의 이온 조사로 인한 target 손상이 심할 수 있다는 점입니다.
Oxidation을 할 수 있다/없다의 문제는 사실 O2 ECR plasma oxidation process에서 해리 반응을 제고하고, 이온 조사 손상을 줄이는 플라즈마를 구현/제어의 문제라 생각됩니다. 즉, 플라즈마 물성(각종 실험변수에 의한 전자 온도, 플라즈마 전위, 플라즈마 밀도, 라디칼 특성, 플라즈마에 의한 기판 온도 변화 특성, diffusion(ECR 영역과 target의 거리) 등등)을 잘 알아야합니다.
선행 연구 논문들이 있으니 한번 찾아보시고, 플라즈마 특성과 oxidation 관련 궁금한 점이 있으시면 언제든지 이메일 주세요. 도움이 되었으면 좋겠습니다. 감사합니다.