Others Plasma source type

2004.06.25 16:49

관리자 조회 수:44884 추천:321

질문 ::

CCP?
ICP?
TCP?
위 3가지 type에 자세한 설명을 부탁드립니다
감사합니다

답변 ::

자세한 설명은 이미 설명드린 사항을 참고하시기 바랍니다.
CCP=capcitively coupled plasma source
oscillated electrice field 에 의한 breakdown이 주요 발생원이며
전극 근방에서 oscillated sheath에서의 전자 가열이 플라즈마 밀도를
높이게 됩니다.
ICP=inductively coupled plasma source
이름 그대로 안테나 전류에서 발생되는 자기장에 의한 유도 기전력에
의한 전자의 가속으로 전자에너지가 커지고 충돌에 의해 플라즈마가
발생하게 됩니다. 따라서 안테나 근방의 전자기장이 삽입되는 영역에서
전자가열이 크고 플라즈마가 발생하여 공간내로 퍼지게 됩니다.
CCP와의 차이는 전자가 에너지를 받는 길이 CCP는 전극과 전극사이
길을 통하며, ICP는 공간내의 원형길을 따라서 생성됨으로 생성효율이
좋게 됩니다.

TCP는 ICP의 한 형태로 생각해도 무방합니다. TCP는  ICP의 일부를 변형시킨 Lam사의 장비의 고유이름입니다. 플라즈마 발생 메카니즘은
ICP와 동일합니다.

번호 제목 조회 수
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48523
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 49163
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 54849
» Plasma source type 44884
23 Xe 기체를 사용한 플라즈마 응용 20111
22 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 18951
21 AC 플라즈마에서의 전압/전류 형상... 18771
20 플라즈마로 처리가 어떻게 가능한지 궁금합니다. [1] 15685
19 냉각수에 의한 Power Leak 14199
18 Microwave 장비 관련 질문 [1] 8059
17 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 5994
16 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 3115
15 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 1489
14 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1115
13 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 1057
12 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 918
11 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 760
10 저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다. 717
9 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 626
8 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] 557
7 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] 499
6 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [1] 474
5 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 371

Boards


XE Login