Plasma in general Co-relation between RF Forward power and Vpp
2022.04.27 17:35
Hello,
I am working on a ALD (Atomic layer deposition) product wherein we are processing multiple wafers in the single reactor.
When we supply RF power to one of the reactor (i.e. REACTOR 1), the other reactor (REACTOR 2) beside reactor 1 is showing high Vpp value. We are not supplying RF power to reactor 2. (Please note reactor 1 & reactor 2 share the gas flow volume and are not fully isolated)
Why would this be happening ?
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] | 76763 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20221 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57173 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68712 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92336 |
| 54 | 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] | 679 |
| 53 | RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] | 669 |
| 52 | 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] | 641 |
| 51 | plasma 공정 중 색변화 [1] | 611 |
| 50 | 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] | 596 |
| » | Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] | 594 |
| 48 |
수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다
[2]  | 590 |
| 47 | 간단한 질문 몇개드립니다. [1] | 587 |
| 46 | Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] | 582 |
| 45 | Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] | 567 |
| 44 | Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] | 559 |
| 43 | 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] | 550 |
| 42 | self bias [1] | 530 |
| 41 |
안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다.
[1] | 507 |
| 40 | 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... | 489 |
| 39 | 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] | 485 |
| 38 | (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] | 484 |
| 37 | 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] | 484 |
| 36 | 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [1] | 469 |
| 35 | Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [1] | 460 |
It seems to be an RF ground issue, and check it.