안녕하세요,

재료공학과 연구실에서 연구를 하고 있는 대학원생입니다.

항상 좋은 답변 해주셔서 많은 도움을 받고 있습니다.


제가 이번에 Arcing 관련 이슈를 공부하고 있는데,


1. DC plasma에서의 arcing과 RF plasma에서의 arcing사이에 어떤 차이가 있는지 궁금합니다.

그리고,

2. RF plasma에서 발생하는 arcing을 줄일 수 있는 방법에는 어떠한 것들이 있는지도 궁금합니다.


감사합니다.



번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76749
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20217
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57169
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68707
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92306
99 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [3] 4489
98 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4013
97 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3710
96 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3539
» RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3411
94 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3325
93 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2786
92 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2687
91 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2644
90 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2479
89 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2385
88 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2318
87 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2316
86 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2316
85 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2270
84 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2235
83 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2008
82 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1957
81 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1944
80 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1915

Boards


XE Login