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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[317]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 22004 |
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 70420 |
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
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CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
| 23340 |
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CCP/ICP , E/H mode
| 23288 |
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입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) [ICP와 CCP의 heating]
| 23202 |
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에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
[1] | 19898 |
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RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [RF 방전과 이온 에너지]
[1] | 18953 |
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capacitively/inductively coupled plasma [Heating mechanism과 coolant]
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좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전력 인가와 플라즈마 밀도]
[2] | 16794 |
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CCP의 electrod 재질 혼동 [PECVD와 화학물 코팅]
| 16572 |
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CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [유전체 격벽 방전]
[1] | 7772 |
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CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.[CCP와 Vdc, Vpp]
[1]  | 6345 |
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CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [Breakdown 전기장, 아크 방전]
[3] | 3800 |
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CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [Paschen's Law, P-d 방전 곡선]
[1] | 2492 |
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CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance]
[3] | 1742 |
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PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단]
[1] | 1710 |
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Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance]
[1] | 1571 |
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HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정]
[1] | 1205 |
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13 |
CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion]
[1] | 1189 |
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12 |
anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘]
[1] | 1171 |
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11 |
CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias]
[1] | 1168 |
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10 |
RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [TC gauge 동작 원리]
[1] | 1003 |
