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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61083
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102 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 45705
101 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 39957
100 Ground에 대하여 34786
99 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 34314
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97 esc란? 27323
96 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 26851
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94 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 26399
93 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25717
92 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25295
91 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 24914
90 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24447
89 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24240
88 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24213
87 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 23809
86 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 22991
85 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22614
84 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22295
83 Peak RF Voltage의 의미 22029

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