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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68809
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124 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 47943
123 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41279
122 Ground에 대하여 39493
121 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 35969
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119 Arcing [1] 28672
118 esc란? 28101
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116 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27223
115 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26495
114 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26226
113 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25589
112 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24901
111 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24781
110 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24770
109 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24631
108 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23348
107 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22952
106 Peak RF Voltage의 의미 22623
105 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22583

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