안녕하세요. 저는 반도체 회사에 설비 엔지니어로 일하고 있습니다.

기계공학 열전달 주전공으로 석사를 졸업했는데 설비의 플라즈마와 전자공학 지식에 전혀 없어 고견 부탁드립니다..

PLASMA MATCHING에 관해 궁금한 점이 있습니다.

일단 기본적으로 임피던스의 허수부 즉 리액턴스를 0로 가져갈 수 있도록 하는 것으로 알고 있었는데,

여기 글들을 보면서 뿐만 아니라 전원의 13.56MHZ 50옴과 맞게 뒤에 챔버 부분을 50옴으로 저항까지 맞춰주는 것으로 알게 되었내요..

1. LOAD의 경우 리액턴스와 레지스턴스 동시에 작용하나, 레지스턴스 영향력이 강해 실수부 저항을 매칭해주는 것으로 설명을 보았어요

궁금한 점이 실제 MACHING TREND를 보면 LOAD / TUNE 포지션이 반대 방향으로 움직이며 동일 방향으로 움직이는 경우를 못봤습니다.

이는 LOAD 캐패시터와 TUNE 캐패시터가 임피던스 계산 시 반대? (TUNE이 역수로 작용) TUNE이 상승하면 반대로 LOAD는 내려가야

리액턴스가 0이 된다고 생각했는데... 1. 실수(레지스턴스)에 어떻게 LOAD가 작용하는 것인지가 궁금합니다.

1) CH 임피던스가 50보다 낮을때... 2) 50보다 높을 때 어떻게 LOAD가 이 저항값을 맞추는지 궁금해요..

또한, 이상 TREND 관찰 시 순간적으로 LOAD TUNE이 같은 방향으로 움직이는 것을 보았는데, 이 경우 MATCHING 알고리즘 상 순간적으로

MATCHING 못하고 발산?한 것인지 궁금합니다.


답변 주시면 정말 감사하겠습니다!

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