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11 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6127
10 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 4292
9 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 3688
8 ESC Cooling gas 관련 [1] 2627
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6 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 1793
5 Si Wafer Broken [2] 1720
4 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1469
3 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1015
2 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 625
1 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 296

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