안녕하세요.

국내 반도체장비 업체에서 Plasma etch 설비를 운용하고 있는 연구원입니다.

 

현재 저희 설비는 RF Bias와 Matcher를 사용하고있는데, 출력되는 parameter 중 Vpp, Vdc에 대해 궁금한 사항이 있어 질의를 드립니다.

Vpp, Vdc값들은 Matcher 출력단에서 측정하는 것으로 알고 있는데,

만약 Chuck의 Material 및 wafer의 재료가 달라졌을때 해당 값들이 달라지는데, 달라지는 이유에 대해서 궁금합니다.

Material의 유전율 및 Capasitance 특성 등이 Vpp, Vdc값에 영향을 줄 수 있는지요.

ex) Chuck의 코팅 두께가 달라진 경우 or Chuck의 코팅 material이 달라진 경우.

 

감사합니다. 새해복 많이 받으세요.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [320] 85220
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 22451
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 59207
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70871
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 97862
16 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27406
15 Reflrectance power가 너무 큽니다. [RF matching과 breakdown] [1] 25117
14 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [ICP Matching과 Circuit model] [1] 24938
13 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [High Power RFG] [2] 7690
12 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [VI probe] [3] 6237
11 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [플라즈마 주파수와 Vpp, sheath] [1] 4089
» Vpp, Vdc 측정관련 문의 [Self bias와 DC offset] [1] 3983
9 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다.(챔버쪽 임피던스 검출) [플라즈마 특성과 장비 임피던스] [1] file 2733
8 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다. [플라즈마 특성변화와 SH impedance 변화] [1] 2551
7 chamber impedance [장비 임피던스 데이터] [1] 2155
6 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [플라즈마 임피던스, 운전압력조절 방전 조건] [1] 1877
5 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [접촉 저항] [2] 1784
4 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다. [VI Phase] [1] 1101
3 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [플라즈마 회로 설계] [2] 651
2 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 648
1 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 359

Boards


XE Login