Deposition 플라즈마 데미지에 관하여..
2012.09.24 18:00
안녕하십니까,
저는 한양대학교 신소재공학과에서 석박 생활을 하고 있는 학생입니다.
다름이 아니오라 제가 진행하고 있는 실험에 대하여 소자 특성저하에 여러가지 변수 중
플라즈마 데미지 라는 부분을 확인해 보기 위하여 검색을 하다가 플라즈마 응용연구실 Q&A 를 이용하게 되었습니다.
저는 TFT를 연구하고 있는데, 궁금한점이 있습니다.
Passivation- Free 상태의 TFT 즉 바텀 게이트를 이용하는 TFT의 채널층이 노출된 상태에서
PECVD 를이용하여 40W 100도 공정을 이용하여 약 1시간 정도SiNx 를 Deposition 할 경우
처음에 열려 있는 채널층에 플라즈마 데미지에 의하여 이온이 차지가 된다거나 기타 다른 차지들이 채널층에
데미지를 줄 수 있을까요../?
궁금한 마음이 급하여 두서없이 작성했습니다.
혹 실례가 되지 않는다면 답변 부탁드리겠습니다. 감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [218] | 75409 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19148 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56477 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 67540 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 89320 |
744 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 143351 |
743 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134328 |
742 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 94463 |
741 | Plasma source type | 78752 |
740 | Silent Discharge | 64512 |
739 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 53991 |
738 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47314 |
737 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43562 |
736 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
![]() | 40896 |
735 | 대기압 플라즈마 | 40360 |
734 | RF frequency와 RF power 구분 | 38923 |
733 | Ground에 대하여 | 38753 |
732 | Self Bias | 36279 |
731 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35403 |
730 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34783 |
729 | PEALD관련 질문 [1] | 32061 |