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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[330]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. [Flow rate]
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828 |
DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여..
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827 |
RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 [해리와 세정 활성종]
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826 |
Plasma source type [CCP, ICP, TCP]
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Silent Discharge
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824 |
VPP,VDC 어떤 FACTOR인지 알고 싶습니다. [Vpp, Vdc와 플라즈마 발생 원리]
[1] | 55876 |
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823 |
안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [Matching과 L-type]
[1] | 48859 |
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플라즈마내에서의 아킹 [Charge와 plasma potential]
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821 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
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820 |
대기압 플라즈마
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819 |
Ground에 대하여
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818 |
RF frequency와 RF power 구분
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817 |
Self Bias [Self bias와 플라즈마 특성 인자]
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816 |
Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) [Matching Q factor와 negative ion]
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815 |
ECR plasma 장비관련 질문입니다. [ECR과 enhanced process]
[2] | 35282 |
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814 |
PEALD관련 질문 [Passivation 막 증착 과정]
[1] | 33008 |
