|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[337]
| 111518 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 27842 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 65114 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 76939 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 111200 |
|
536 |
상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [DBD와 플라즈마 방전 메커니즘]
[1] | 8460 |
|
535 |
플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [플라즈마 밀도와 중성 가스의 균일도]
[1] | 8439 |
|
534 |
플라즈마 발생 억제 문의 [Induction field와 breakdown]
[1] | 8362 |
|
533 |
정전척 isolation문의 입니다. [Paschen's law와 절연파괴현상]
[1] | 8238 |
|
532 |
고온 플라즈마 관련
| 8211 |
|
531 |
MFP에 대해서.. [Collisional cross section]
[1] | 8205 |
|
530 |
RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [High Power RFG]
[2] | 8194 |
|
529 |
플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [RRC 연구센터 문의]
[1] | 8023 |
|
528 |
CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [유전체 격벽 방전]
[1] | 8010 |
|
527 |
Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [Plasma impedance와 Matcher]
[2] | 7675 |
|
526 |
ETCH 관련 RF MATCHING중 REF 현상에 대한 질문입니다. [플라즈마 응답 특성]
[1] | 7659 |
|
525 |
코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [Reaction rate 및 reaction rate coefficient]
[1]  | 7295 |
|
524 |
SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [ER과 energy transport]
[1] | 7250 |
|
523 |
RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [물리적/화학적 세정]
[4] | 7220 |
|
522 |
저온플라즈마에 관해서 [플라즈마 방전의 특성]
[1] | 7162 |
|
521 |
O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154
[1] | 7068 |
|
520 |
Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [플라즈마 임피던스 및 내부 임피던스 변화]
[2] | 6958 |
|
519 |
O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [Chemical reaction과 pressure]
[1] | 6859 |
|
518 |
플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매커니즘 문의.. [플라즈마 leak와 국부방전]
[1] | 6859 |
|
517 |
플라즈마 데미지에 관하여.. [Charge의 축적과 damage]
[1] | 6855 |
