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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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질문있습니다. [전자 에너지 분포함수 및 Maxwell 분포]
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N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [충돌 반응 및 전력 전달 모델]
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플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [대기압 플라즈마와 라디컬 생성]
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PR wafer seasoning [Particle balance, seasoning]
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RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [Standing wave effect]
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ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [ESC 영역 온도 조절]
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Load position관련 질문 드립니다. [Impedance matching]
[1] | 2880 |
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DRY Etcher Alarm : He Flow 관점 문의 드립니다. [O ring 결합부 근처 leak detect]
[1] | 2876 |
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Ashing 공정에 필요한 O2plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전자 충돌 이온화 반응 해리 반응 흡착 반응]
[1] | 2874 |
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안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다.(챔버쪽 임피던스 검출) [플라즈마 특성과 장비 임피던스]
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플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [Ionization collision 및 Effective ionization energy]
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플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [최적 정합 조건 및 정합 시간]
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산소 양이온의 금속 전극 충돌 현상 [플라즈마 표면 반응]
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PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAT <-> STAGE HEATER 간 GAP과 DEPO 막질의 THK와의 연관성…. [Plasma property와 process control]
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Dry etch 할 때 센터와 사이드 etch rate [Plasma diffusion과 distribution]
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RPS를 이용한 SIO2 에칭 [Etch와 remote plasma]
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임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [플라즈마 dielectric property]
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CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [Paschen's Law, P-d 방전 곡선]
[1] | 2780 |
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RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [Ionization과 chucking]
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doping type에 따른 ER 차이 [MD 시뮬레이션 연구]
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