번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5832
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공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53125
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64504
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85117
658 self bias (rf 전압 강하) 26153
657 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26017
656 충돌단면적에 관하여 [2] 25567
655 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25442
654 플라즈마의 정의 25389
653 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 25342
652 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24626
651 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24577
650 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24513
649 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24460
648 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24361
647 플라즈마가 불안정한대요.. 24348
646 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24291
645 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24094
644 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 23982
643 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 23793
642 OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] 23760
641 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23642
640 플라즈마 쉬스 23556
639 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23335

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