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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
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광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요?
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598 |
Arcing
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597 |
No. of antenna coil turns for ICP
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596 |
self Bias voltage
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595 |
DC glow discharge
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594 |
안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
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593 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
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592 |
플라즈마의 정의
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591 |
고온플라즈마와 저온플라즈마
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590 |
[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요.
[3] | 22479 |
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589 |
plasma와 arc의 차이는?
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588 |
[질문] Plasma density 측정 방법
[1] | 22325 |
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587 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22322 |
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586 |
floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점
[1] | 22321 |
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585 |
pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련..
[1] | 22277 |
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584 |
Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 22246 |
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583 |
Peak RF Voltage의 의미
| 22072 |
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582 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 21985 |
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581 |
플라즈마 코팅에 관하여
| 21886 |
