공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[143]
| 5832 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 17288 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 53125 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 64505 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 85117 |
638 |
self Bias voltage
| 23174 |
637 |
Arcing
| 23172 |
636 |
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
| 23129 |
635 |
플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다.
| 23105 |
634 |
plasma와 arc의 차이는?
| 23083 |
633 |
CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
| 23056 |
632 |
광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요?
| 23050 |
631 |
DC glow discharge
| 22905 |
630 |
No. of antenna coil turns for ICP
| 22823 |
629 |
고온플라즈마와 저온플라즈마
| 22764 |
628 |
안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
| 22755 |
627 |
[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요.
[3] | 22747 |
626 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
| 22651 |
625 |
[질문] Plasma density 측정 방법
[1] | 22447 |
624 |
floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점
[1] | 22445 |
623 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22427 |
622 |
pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련..
[1] | 22383 |
621 |
Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 22363 |
620 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 22265 |
619 |
Peak RF Voltage의 의미
| 22235 |