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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [에너지 균형과 입자 균형식]
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실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무
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HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking]
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ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산]
[1] | 181 |
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진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy]
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Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해]
[1] | 169 |
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반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가]
[2] | 169 |
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RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [RF Power]
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CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching]
[1] | 166 |
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DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [상압플라즈마 소스]
[1] | 166 |
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플라즈마 사이즈 측정 방법 [플라즈마 분포 측정 및 산포 평가]
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RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해]
[1] | 158 |
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공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해]
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CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화]
[1] | 145 |
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플라즈마 설비에 대한 질문
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Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포]
[1] | 137 |
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PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다.
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RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [RF 전원과 매칭]
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Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해]
[1] | 113 |
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자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [부착물의 흡착 관리]
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