|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[333]
| 103379 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 24719 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 61543 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 73525 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 105968 |
|
754 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [플라즈마 및 반응기 임피던스]
[1] | 23267 |
|
753 |
floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [Ambipolar diffusion, Floating potential]
[2] | 23108 |
|
752 |
안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
| 23086 |
|
751 |
[질문] Plasma density 측정 방법 [Plasma property와 sputtering]
[1] | 22959 |
|
750 |
pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련 [Pulse plasma와 trigger-in]
[1] | 22912 |
|
749 |
Peak RF Voltage의 의미
| 22858 |
|
748 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성]
[3] | 22827 |
|
747 |
Dry Etcher 에 대한 교재 [플라즈마 식각 기술]
[1] | 22813 |
|
746 |
질문있습니다 교수님 [Deposition]
[1] | 22713 |
|
745 |
Dry Etcher 내 reflect 현상 [Chuck 전압/전류 및 field breakdown]
[2] | 22548 |
|
744 |
플라즈마의 발생과 ICP
| 22337 |
|
743 |
플라즈마내의 전자 속도 [Self bias]
[1] | 22250 |
|
742 |
플라즈마 코팅 관하여 [PECVD와 화학물 코팅]
| 22223 |
|
741 |
플라즈마 온도 질문+충돌 단면적 [전자의 에너지에 따른 충돌반응]
| 22145 |
|
740 |
펄스바이어스 스퍼터링 답변
| 22085 |
|
739 |
스퍼터링시 시편 두께와 박막두께 [박막의 하전량 변화]
[1] | 22044 |
|
738 |
ccp-icp
| 21978 |
|
737 |
glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압
| 21933 |
|
736 |
F/S (Faraday Shield)
 | 21855 |
|
735 |
manetically enhanced plasmas
| 21778 |
