|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[338]
| 225718 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 65258 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 102277 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 114375 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 193385 |
|
833 |
SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. [Flow rate]
| 150299 |
|
832 |
DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여..
| 135604 |
|
831 |
RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 [해리와 세정 활성종]
| 99047 |
|
830 |
Plasma source type [CCP, ICP, TCP]
| 81546 |
|
829 |
Silent Discharge
| 65675 |
|
828 |
VPP,VDC 어떤 FACTOR인지 알고 싶습니다. [Vpp, Vdc와 플라즈마 발생 원리]
[1] | 58486 |
|
827 |
안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [Matching과 L-type]
[1] | 51508 |
|
826 |
플라즈마내에서의 아킹 [Charge와 plasma potential]
| 44935 |
|
825 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 42743 |
|
824 |
대기압 플라즈마
| 41900 |
|
823 |
Ground에 대하여
| 41303 |
|
822 |
RF frequency와 RF power 구분
| 40597 |
|
821 |
ECR plasma 장비관련 질문입니다. [ECR과 enhanced process]
[2] | 37769 |
|
820 |
Self Bias [Self bias와 플라즈마 특성 인자]
| 37713 |
|
819 |
Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) [Matching Q factor와 negative ion]
| 37447 |